北京朗时云帆科技有限公司
如何进行干式电解质抛光工艺的表征测量？


干式电解质抛光工艺的表征测量


1.png


       Sensofar S neox Five Axis 用于量化抛光过程的质量，并报告使用 DLyte 抛光后样品粗糙度的降低情况。样品可以是非常粗糙的增材制造部件，也可以是镜面，由于技术的多样性，包括多焦面叠加、共聚焦和干涉测量技术，因此大多的样品都可以用Sensofar系统进行测量。


DLyte 抛光前后的钴铬合金股骨部件：


2.png


       借助 Sensofar 的计量技术，可以测量表面参数，如 Sa（Ra的拓展）。Sa 在测量粗糙度时考虑到了样品三维表面，从而比 Ra 更好地描述了表面的特征。测量面积的主要优点是可以扫描更大的面积，生成几毫米大小的区域，以便更好地观察样品，从而获得更可靠的数值。三维面积表面参数是根据 ISO 25178 标准计算的，该标准首先被认为是对表面纹理基础的重新定义，包括以下参数：Sa、Sq、Ssk、Sku、Sp、Sv 和 Sz。


测量


3.png


上述测量是使用 50x DI 物镜，利用干涉测量技术进行的，该技术可让我们测量镜面表面，如之前展示的股骨组件样品。

通过 S neox Five Axis，不仅可以确定抛光工艺后表面粗糙度降低的情况，还可以证明由于采用了 Drylyte 技术，抛光部件的公差得以保持。